CVD高溫管式氣氛爐

描述：CVD管式氣氛爐適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等實驗。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-05-08
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產(chǎn)品介紹/ PRODUCT PRESENTATION

JK08-13-2ACVD高溫管式氣氛爐

JK08-13-2ACVD高溫管式氣氛爐產(chǎn)品特點：

可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)（二溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預抽真空，通多種氣氛。真空泵、閥采用進口設備，性能可靠。控制電路選用模糊PID程序控制技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。在預熱方式上設有本公司自主研發(fā)的自動升溫預熱程序。在程序下不需要操作人員監(jiān)看、調(diào)整工作電流，可將工作人員從繁瑣的操作中解放出來。本系列制造技術已達國內(nèi)水平。

JK08-13-2A 技術參數(shù)：

型號	JK08-13-2A
設計溫度	1000-1300℃
控溫精度	±1℃
極限真空度	-0.01mpa（機械泵）
溫區(qū)	雙溫區(qū)
管徑長度	Ф100＊1200
輸入功率	9KW
電源電壓	AC380V
加熱原件	硅碳棒、鎳鉻絲

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